A sputtering system dedicated to the deposition of high-quality superconducting thin films
Official title in French: Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
EPFL-Scientific Equipment is acquiring a sputtering system for superconducting thin-film research, enabling 200 mm wafer processing to bridge laboratory fabrication and industrial production.
- Deliverables
- Single-chamber magnetron sputtering system processes up to 5 × 200 mm wafers per batch; deposition uniformity below 5%.
- Contract
- Equipment, installation, commissioning and user training are priced separately; payment is 30 days after acceptance.
- Eligibility
- At least five comparable installations, completed within five years; three references must be named.
- Award
- Technical evaluation weighs 60%, financial 30% and general evaluation 10%.
- Watch out
- No price negotiation follows submission; late delivery may trigger compensation for financial loss or damage.
Documents for your bid
- 2623-29680_CMi__8-inch_sputtering_CdC.zipTender documents · 822 KB
Key dates
- 25.09.2026Published on simap.ch
- 28.10.2026Questions round
- 04.11.2026, 23:59Submission deadlineDeadline in 8 days
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Notice text
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Unofficial reproduction. The French text below is taken unchanged from SIMAP notice no. 44730. Only the official notice is binding.
L’EPFL, en collaboration avec l’Université de Genève (UNIGE), prévoit d’acquérir un nouveau système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité. L’équipement sera accueilli par le Centre de MicroNanotechnologie de l’EPFL (CMi). Le CMi est une installation centralisée dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ouverte aux universités externes ainsi qu’aux industriels locaux (>600 utilisateurs actifs par an). Le nouvel équipement sera dédié à la recherche de pointe dans le domaine des détecteurs de photons uniques avec l’objectif de combler l’écart entre la fabrication à l’échelle laboratoire et celle à l’échelle industrielle en permettant la déposition sur plaques de diamètre 200 mm. Une grande importance sera accordée non seulement à la qualité des dépositions et les propriétés supraconductrices des films minces, mais également à la facilité d’utilisation des équipements, à leur simplicité/rapidité d’apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et à leur flexible, mais néanmoins robuste, capacité de contrôle de procédés de dépositions dans un environnement type R&D. Un grand intérêt sera également porté à la proximité et la réactivité du fournisseur pour l’ensemble du support technique et aux procédés. En lien avec les besoins de l’EPFL et les objectifs scientifiques du CMi et de l’UNIGE, une attention particulière sera placée sur les points suivants : ● Qualité, reproductibilité et uniformité des films supraconducteurs. ● Intégration avec nos infrastructures.