Eine Sputter-Abscheidungsanlage, speziell für die Herstellung von qualitativ hochwertigen supraleitenden Dünnschichten
Offizieller Titel auf Französisch: Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
EPFL-Scientific Equipment beschafft eine Sputteranlage für die Forschung an supraleitenden Dünnschichten, um 200-mm-Wafer zu bearbeiten und Laborfertigung und industrielle Produktion zu verbinden.
- Leistungen
- Ein Einkammer-Magnetron-Sputtersystem verarbeitet bis zu 5 × 200-mm-Wafer pro Charge; Abscheidungsgleichmässigkeit unter 5%.
- Vertrag
- Anlage, Installation, Inbetriebnahme und Nutzerschulung sind separat zu offerieren; Zahlung 30 Tage nach Abnahme.
- Eignung
- Mindestens fünf vergleichbare, innert fünf Jahren abgeschlossene Installationen; drei Referenzen müssen namentlich genannt werden.
- Zuschlag
- Die technische Bewertung zählt 60%, die finanzielle 30% und die allgemeine 10%.
- Zu beachten
- Nach Einreichung sind keine Preisverhandlungen möglich; bei verspäteter Lieferung kann Schadenersatz verlangt werden.
Unterlagen für Ihre Offerte
- 2623-29680_CMi__8-inch_sputtering_CdC.zipAusschreibungsunterlagen · 822 KB
Wichtige Termine
- 25.09.2026Publikation auf simap.ch
- 28.10.2026Fragerunde
- 04.11.2026, 23:59 UhrEingabefristFrist in 8 Tagen
Die vollständige Ausschreibungsanalyse
Detaillierter Leistungsumfang
Strukturierter Überblick über Leistungen, Anforderungen und Fristen.
Prüfung des Auftraggebers
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Text der Publikation
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Nicht offizielle Wiedergabe. Der folgende Text auf Französisch stammt unverändert aus der SIMAP-Publikation Nr. 44730. Ausschliesslich die offizielle Publikation ist massgebend.
L’EPFL, en collaboration avec l’Université de Genève (UNIGE), prévoit d’acquérir un nouveau système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité. L’équipement sera accueilli par le Centre de MicroNanotechnologie de l’EPFL (CMi). Le CMi est une installation centralisée dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ouverte aux universités externes ainsi qu’aux industriels locaux (>600 utilisateurs actifs par an). Le nouvel équipement sera dédié à la recherche de pointe dans le domaine des détecteurs de photons uniques avec l’objectif de combler l’écart entre la fabrication à l’échelle laboratoire et celle à l’échelle industrielle en permettant la déposition sur plaques de diamètre 200 mm. Une grande importance sera accordée non seulement à la qualité des dépositions et les propriétés supraconductrices des films minces, mais également à la facilité d’utilisation des équipements, à leur simplicité/rapidité d’apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et à leur flexible, mais néanmoins robuste, capacité de contrôle de procédés de dépositions dans un environnement type R&D. Un grand intérêt sera également porté à la proximité et la réactivité du fournisseur pour l’ensemble du support technique et aux procédés. En lien avec les besoins de l’EPFL et les objectifs scientifiques du CMi et de l’UNIGE, une attention particulière sera placée sur les points suivants : ● Qualité, reproductibilité et uniformité des films supraconducteurs. ● Intégration avec nos infrastructures.