Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

Reproduction non officielle. Le texte en français ci-dessous est extrait sans modification de la publication SIMAP n° 44730. Seule la publication officielle fait foi.

L’EPFL, en collaboration avec l’Université de Genève (UNIGE), prévoit d’acquérir un nouveau système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité. L’équipement sera accueilli par le Centre de MicroNanotechnologie de l’EPFL (CMi). Le CMi est une installation centralisée dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ouverte aux universités externes ainsi qu’aux industriels locaux (>600 utilisateurs actifs par an). Le nouvel équipement sera dédié à la recherche de pointe dans le domaine des détecteurs de photons uniques avec l’objectif de combler l’écart entre la fabrication à l’échelle laboratoire et celle à l’échelle industrielle en permettant la déposition sur plaques de diamètre 200 mm. Une grande importance sera accordée non seulement à la qualité des dépositions et les propriétés supraconductrices des films minces, mais également à la facilité d’utilisation des équipements, à leur simplicité/rapidité d’apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et à leur flexible, mais néanmoins robuste, capacité de contrôle de procédés de dépositions dans un environnement type R&D. Un grand intérêt sera également porté à la proximité et la réactivité du fournisseur pour l’ensemble du support technique et aux procédés. En lien avec les besoins de l’EPFL et les objectifs scientifiques du CMi et de l’UNIGE, une attention particulière sera placée sur les points suivants : ● Qualité, reproductibilité et uniformité des films supraconducteurs. ● Intégration avec nos infrastructures.